ZEIT Group Prodotti

Macchina ALD per la deposizione di strati atomici del biosensore per l'industria dei sensori
Sistemi di rilevamento a semiconduttore MOSFET Attrezzature per la deposizione di strati atomici ISO
Attrezzatura ALD per la deposizione di strati atomici per l'industria dell'imballaggio elettronico organico
Macchina ALD per la deposizione di strati atomici di filtrazione del campo della membrana di separazione
Rivestimento protettivo del sistema di deposizione dello strato atomico del campo del rivestimento
OEM della macchina ALD per la deposizione di strati atomici dell'industria della testa magnetica
Micro sistemi elettromeccanici MEMS Attrezzatura per la deposizione di strati atomici Rivestimento lubrificante
Macchina per la deposizione di strati atomici di TiO2 ZnO per l'industria energetica
Attrezzatura per la deposizione di strati atomici di catalizzatori metallici di ossido nell'industria dei catalizzatori
Trimetilalluminio AL2O3 TiO2 ZnO ALD Atomic Layer Deposition Coating Machine
OEM dell'apparecchiatura di rilevamento dei difetti superficiali del substrato della maschera antipolvere dei graffi
Attrezzatura per rivestimento ottico ALD Al2O3 Dimensioni rivestimento 200 × 200 mm
Substrato per fotomaschere al quarzo 127 × 127 mm per display a schermo piatto
Substrato per fotomaschere FPD da 152 × 152 mm per la fabbricazione di micro nano
Substrato per fotomaschere al quarzo 350 × 300 mm per la produzione di chip di circuiti integrati
Molatura Lucidatura Cromatura 5280 Substrato per fotomaschere al quarzo 800mm×520mm

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