Magnetron Sputtering Deposition nel campo del film funzionale
Applicazioni
| Applicazioni | Scopo specifico | tipo di materiale |
| Pellicola funzionale | Film superduro | TiN, TiC |
|
Pellicola resistente alla luce |
Cr, AlSi, AlTi, ecc | |
| Pellicola resistiva | NiCrSi, CrSi, MoTa, ecc | |
| Film superconduttore | YbaCuO, BiSrCaCuo | |
| Pellicola magnetica | Fe, Co, Ni, FeMn, FeNi, ecc |
Principio di funzionamento
Esistono molti tipi di magnetron sputtering con diversi principi di funzionamento e oggetti applicativi.Ma lì
è una cosa in comune: fa correre gli elettroni in percorsi a spirale vicino alla superficie bersaglio per interazione tra di loro
campi magnetici ed elettrici, aumentando così la probabilità di generare ioni generati dagli elettroni che colpiscono l'argon.
Gli ioni generati quindi colpiscono la superficie del bersaglio sotto l'azione del campo elettrico e spruzzano i materiali del bersaglio.
Caratteristiche
| Modello | MSC-FF-X—X |
| Tipo di rivestimento | Vari film dielettrici come film metallico, ossido di metallo e AIN |
| Intervallo di temperatura del rivestimento | Temperatura normale fino a 500 ℃ |
| Dimensione della camera sottovuoto di rivestimento | 700mm*750mm*700mm (personalizzabile) |
| Vuoto di fondo | <5×10-7mbar |
| Spessore del rivestimento | ≥ 10 nm |
| Precisione nel controllo dello spessore | ≤±3% |
| Dimensione massima del rivestimento | ≥ 100 mm (personalizzabile) |
| Uniformità dello spessore del film | ≤ ±0,5% |
| Supporto del substrato | Con meccanismo di rotazione planetaria |
| Materiale bersaglio | 4 × 4 pollici (compatibile con 4 pollici e inferiore) |
| Alimentazione elettrica | Gli alimentatori come DC, impulsi, RF, IF e polarizzazione sono opzionali |
| Gas di processo | Ar, n2, o2 |
| Nota: produzione personalizzata disponibile. | |
Campione di rivestimento
Fasi del processo
→ Posizionare il substrato per il rivestimento nella camera a vuoto;
→ Aspirare grossolanamente;
→ Accendere la pompa molecolare, aspirarealla massima velocità, quindi attivare la rivoluzione e la rotazione;
→ Riscaldare la camera a vuoto finché la temperatura non raggiunge ilobbiettivo;
→ Implementare il controllo costante della temperatura;
→ Elementi puliti;
→ Rivoluzione e ritorno all'origine;
→ Film di rivestimento secondo i requisiti del processo;
→ Abbassare la temperatura e arrestare il gruppo pompa dopo il rivestimento;
→ Smetti di lavorare quandol'operazione automatica è terminata.
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