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Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering Deposition System For Medical Treatment

Sistema di deposizione di sputtering del magnetron di Al2O3 TiO2 per il trattamento medico

  • Evidenziare

    Deposizione di sputtering del magnetron di trattamento medico

    ,

    Deposizione di sputtering del magnetron di Al2O3 TiO2

    ,

    sistema di sputtering del magnetron di trattamento medico

  • Il peso
    Personalizzabile
  • Dimensione
    Personalizzabile
  • Personalizzabile
    A disposizione
  • Periodo di garanzia
    1 anno o caso per caso
  • Termini di spedizione
    Via Mare/Aereo/Trasporto Multimodale
  • Luogo di origine
    Chengdu, Repubblica popolare cinese
  • Marca
    ZEIT
  • Certificazione
    Case by case
  • Numero di modello
    MSC-MT-X—X
  • Quantità di ordine minimo
    1 set
  • Prezzo
    Case by case
  • Imballaggi particolari
    scatola di legno
  • Tempi di consegna
    Caso per caso
  • Termini di pagamento
    T/T
  • Capacità di alimentazione
    Caso per caso

Sistema di deposizione di sputtering del magnetron di Al2O3 TiO2 per il trattamento medico

Magnetron Sputtering Deposition nell'industria delle cure mediche
 
 
Applicazioni    

     Applicazioni     Scopo specifico     tipo di materiale
    Trattamento medico     Materiali biocompatibili      Al2O3, TiO2

 
Principio di funzionamento
Il principio di base dello sputtering del magnetron è che gli elettroni si scontrano con gli atomi di argon nel processo di volo verso

ilsubstrato sotto l'azione del campo elettrico, gli ioni di argon prodotti bombardano la superficie bersaglio.Dopo l'energia

scambio,gli atomi sulla superficie bersaglio fuoriescono dal reticolo originalee vengono trasferiti al substrato

superficie per formare pellicole.
 
Caratteristiche 

  Modello   MSC-MT-X—X
 Tipo di rivestimento   Vari film dielettrici come film metallico, ossido di metallo e AIN
 Intervallo di temperatura del rivestimento   Temperatura normale fino a 500 ℃
 Rivestimento sottovuotocamera size  700mm * 750mm * 700mm (personalizzabile)
  Vuoto di fondo   <5×10-7mbar
 Spessore del rivestimento   ≥ 10 nm
  Precisione nel controllo dello spessore  ≤±3%
 Dimensione massima del rivestimento   ≥ 100 mm (personalizzabile)
  Uniformità dello spessore del film   ≤ ±0,5%
  Supporto del substrato  Con meccanismo di rotazione planetaria
  Materiale bersaglio   4 × 4 pollici (compatibile con 4 pollici e inferiore)
  Alimentazione elettrica  Gli alimentatori come DC, impulsi, RF, IF e polarizzazione sono opzionali
  Gas di processo   Ar, n2, o2
  Nota: produzione personalizzata disponibile.

                                                                                                                
Campione di rivestimento

Sistema di deposizione di sputtering del magnetron di Al2O3 TiO2 per il trattamento medico 0

 

Fasi del processo 
→ Posizionare il substrato per il rivestimento nella camera a vuoto;
→ Aspirare grossolanamente;
→ Accendere la pompa molecolare, aspirare alla massima velocità, quindi attivare la rotazione e la rotazione;
→ Riscaldare la camera a vuoto finché la temperatura non raggiunge il target;
→ Implementare il controllo costante della temperatura;
→ Elementi puliti;
→ Rivoluzione e ritorno all'origine;
→ Film di rivestimento secondo i requisiti del processo;
→ Abbassare la temperatura e arrestare il gruppo pompa dopo il rivestimento;
→ Smettere di funzionare quando l'operazione automatica è terminata;

 
I nostri vantaggi
Siamo produttore.
Processo maturo.
Risposta entro 24 ore lavorative.

 
La nostra certificazione ISO
Sistema di deposizione di sputtering del magnetron di Al2O3 TiO2 per il trattamento medico 1
 

Parti dei nostri brevetti
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Parti dei nostri premi e qualifiche di ricerca e sviluppo
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