Semiriflettore
Capacità di elaborazione
In grado di realizzare i processi completi nella progettazione ottica, nella progettazione dello strumento, nello stampaggio ad alta precisione dei componenti,
lavorazione planare, lavorazione sferica, lavorazione asferica, rivestimento, ecc.
Applicazioni
Informazioni fotoelettriche;aerospaziale;nuova energia;apparecchiature per l'energia nucleare e l'energia nucleare e altri campi.
Prestazione
● È un semiriflettore formato rivestendo un film multistrato dielettrico sulla superficie di un substrato parallelo o a forma di cuneo
substrato.
● Uno spettroscopio divide la luce incidente in luce riflessa e luce trasmessa in un rapporto 1:1.
● L'altro lato è rivestito con pellicola multistrato antiriflesso.
● Corrisponde a un semiriflettore piatto con un'ampia gamma di lunghezze d'onda.
● La perdita di luce incidente è minima poiché il film dielettrico è scarsamente assorbito.Tuttavia, la riflettività e
la trasmittanza varia con la lunghezza d'onda, lo stato di polarizzazione e l'angolo di incidenza.Maggiore è la riflettività,
maggiore è la variazione.
● In caso di substrato parallelo, si verificherà un fenomeno di doppia immagine causato dall'offset del percorso ottico
e la riflessione inversa.Un substrato a forma di cuneo può prevenire la doppia immagine.
Caratteristiche
| Semiriflettore | |
| Modello | Riflettore-SM-X |
| Materiale |
H-K9L(BK7), Quarzo, CaF2 |
| Pellicola ottica | Fronte: Film multistrato dielettrico (R:T=1:1) Dorso: Film multistrato antiriflesso |
| Precisione superficiale | λ/10 |
| Parallelismo | ≤30 secondi |
| Qualità della superficie | 20-10 |
| Tolleranza dimensionale | ±0,1 mm |
| Lunghezza d'onda per la misurazione | - |
| Stato di polarizzazione | Nessuna polarizzazione o polarizzazione circolare |
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