Substrato del Photomask del quarzo per FPD e Chip Use
Campo di applicazione
I campi del processo di fotolitografia, quale fabbricazione del chip del circuito integrato, FPD (schermo piatto),
MEMS (sistemi meccanici della micro elettrotipia), ecc.
Principio di funzionamento
La maschera è una maschera matrice grafica comunemente usata nella fotolitografia di montaggio micro-nano. La struttura grafica
è formato su un substrato trasparente da un photomask opaco e poi le informazioni grafiche sono trasferite al
substrato del prodotto con un processo di esposizione.
Caratteristiche
Substrato del Photomask per uso di FPD
| Modello/materiale | Dimensione | Capacità d'elaborazione |
| 5280 / Quarzo | × 520mm di 800mm | Macinazione, lucidatura, placcatura di Chrome, incollante |
| 3035 / Quarzo | × 300mm di 350mm | Macinazione, lucidatura, placcatura di Chrome, incollante |
| 6 pollici/quarzo | × 152mm di 152mm | Macinazione, lucidatura, placcatura di Chrome, incollante |
| 5 pollici/quarzo | × 127mm di 127mm | Macinazione, lucidatura, placcatura di Chrome, incollante |
Substrato del Photomask per uso del chip
| Modello/materiale | Dimensione | Capacità d'elaborazione |
| 5009 / Quarzo | 5 pollici di × 5 pollici di × 0,09 pollici | Macinazione, lucidatura, placcatura di Chrome, incollante |
| 6012 / Quarzo | 6 pollici di × 6 pollici di × 0,12 pollici | Macinazione, lucidatura, placcatura di Chrome, incollante |
| 6025 / Quarzo | 6 pollici di × del × 6inches 0,25 pollici | Macinazione, lucidatura, placcatura di Chrome, incollante |
Flusso trattato
Rilevazione delle materie prime del →
Sgrossatura del →
Lucidatura approssimativa del →
Pulizia della maschera del →
Ispezione di prestazione delle materie prime del →
Il → ha placcato da cromo
Prova di prestazione della maschera del →
Rivestimento del Photoresist del →
Imballaggio del →
Trasporto del →
I nostri vantaggi
Siamo produttore.
Processo maturo.
Risposta entro 24 ore lavorative.
La nostra certificazione di iso
Parti dei nostri brevetti
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