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Dielectric Films Optical Coating Equipment Ar N2 O2 PVD Magnetron Sputtering Deposition

Pellicole dielettriche Attrezzatura per rivestimento ottico Ar N2 O2 PVD Magnetron Sputtering Deposition

  • Evidenziare

    Il pvd di ZEIT farfuglia l'attrezzatura ricoprente ottica del deposito

    ,

    Magnetron dielettrico dei film di ZEIT che farfuglia deposito

    ,

    Il pvd dell'O2 del N2 di ZEIT AR farfuglia il deposito

  • Peso
    2500 ± 200 kg, personalizzabile
  • Dimensione
    2800mm*1000mm* 2300mm, Personalizzabile
  • Personalizzabile
    Disponibile
  • Periodo di garanzia
    1 anno o caso per caso
  • Termini di spedizione
    Tramite il mare/l'aria/il trasporto multimodale
  • Luogo di origine
    Chengdu, Repubblica popolare cinese
  • Marca
    ZEIT
  • Certificazione
    Case by case
  • Numero di modello
    MSC700-750-700
  • Quantità di ordine minimo
    1 set
  • Prezzo
    Case by case
  • Imballaggi particolari
    scatola di legno
  • Tempi di consegna
    Caso per caso
  • Termini di pagamento
    T/T
  • Capacità di alimentazione
    Caso per caso

Pellicole dielettriche Attrezzatura per rivestimento ottico Ar N2 O2 PVD Magnetron Sputtering Deposition

Magnetron di PVD che farfuglia deposito

 

 

Applicazioni

Applicazioni  Scopo specifico  Tipo materiale
Semiconduttore  IC, elettrodo di LSI, fissante film  AI, Al-si, Al-Si-Cu, Cu, Au, pinta, palladio, AG
 Elettrodo di memoria di VLSI  Mo, W, Ti
 Film della barriera di diffusione  MoSix, Wsix, TaSix, TiSx, W, Mo, W-Ti
 Film adesivo  PZT (Pb-ZrO2-Ti), Ti, W
 Esposizione  Film conduttivo trasparente  ITO (In2O; - SnO2)
 Film dei collegamenti dell'elettrodo  Mo, W, Cr, tum, Ti, Al, AlTi, AITa
 Film elettroluminescente

 ZnS-mn, ZnS-TB, CAS-Eu, Y2O3, tum2O5,

 BaTiO3

 Registrazione magnetica  Film di registrazione magnetica verticale  CoCr
 Film per il disco rigido  CoCrTa, CoCrPt, CoCrTaPt
 Testa magnetica del film sottile  CoTaZr, CoCrZr
 Film di cristallo artificiale  Copto, CoPd
Registrazione ottica  Film di registrazione del disco del cambiamento di fase  TeSe, SbSe, TeGeSb, ecc
 Film di registrazione del disco magnetico

 TbFeCo, DyFeCo, TbGdFeCo,

TbDyFeCo

 Film riflettente del disco ottico  AI, AITi, AlCr, Au, lega dell'Au
 Film di protezione del disco ottico  Si3N4, SiO2+ZnS
 Batteria di sottili pellicole della perovskite  Strato di conduzione trasparente  ZnO: Al
 Trattamento medico  Materiali biocompatibili  Al2O3, TiO2
 Rivestimento decorativo  Film colorato, film metallizzato  Al2O3, TiO2etutti i tipidifilmdelmetallo
 rivestimento di Anti-scoloramento  Rivestimento di antiossidazione del metallo prezioso Al2O3, TiO2
 Film ottici  Indice di rifrazione massimo minimo  SiO2, TiO2, tum2O5,₂diZrO, HfO2
 Altre applicazioni  Film a tenuta di luce  Cr, AlSi, AlTi, ecc
 Film resistente  NiCrSi, CrSi, MoTa, ecc
 Film superconduttore  YbaCuO, BiSrCaCuo
 A strato magnetico  Fe, Co, Ni, FeMn, FeNi, ecc

 

Principio di funzionamento

Farfugliare del magnetron è un genere di applicazione a spruzzo fisica (PVD). Fa il movimento degli elettroni nella spirale

percorsi vicino alla superficie dell'obiettivo dall'interazione fra i campi elettrici magnetici e, così aumentare

probabilità degli elettroni che colpiscono il gas dell'argon per generare gli ioni. Gli ioni generati poi hanno colpito la superficie dell'obiettivo

nell'ambito dell'azione del campo elettrico e farfugliare i materiali di obiettivo al film sottile del deposite sulla superficie del substrato.

Il metodo generale farfugliare può essere usato per la preparazione di vari metalli, semiconduttori, ferromagnetici

materiali come pure ossidi isolati, ceramica ed altre sostanze. L'attrezzatura usa il tocco di PLC+

sistema di controllo del pannello HMI, che può entrare i parametri dall'interfaccia trattata programmabile, con le funzioni

quale il singolo obiettivo che farfuglia, farfugliare dell'multi-obiettivo e co-farfugliare sequenziali.

 

Caratteristiche

  Modello   MSC700-750-700
  Tipo ricoprente   Vari film dielettrici come l'ossido di metallo e a film metallico ed AIN
  Gamma di temperature ricoprente   Temperatura normale a 500℃ (personalizzabile)
  Dimensione ricoprente della camera di vuoto   700mm*750mm*700mm (personalizzabile)
  Vuoto del fondo   <5>-7mbar
 Spessore di rivestimento   ≥10nm
  Precisione di controllo di spessore   ≤±3%
  Dimensione ricoprente massima   ≥100mm (personalizzabile)
  Uniformità di spessore di film   ≤±0.5%
  Trasportatore del substrato   Con il meccanismo planetario di rotazione
  Materiale di obiettivo   pollici 4x4 (compatibili con 4 pollici e sotto)
  Alimentazione elettrica  Le alimentazioni elettriche quale CC, impulso, rf, SE e la polarizzazione è facoltativa
  Gas trattato   L'AR, N2, O2
Nota: Produzione su misura disponibile.

                                                                                                                

Campione ricoprente

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Punti trattati

Il → dispone il substrato per ricoprire nella camera di vuoto;

Il → vacuumize approssimativamente;

Il → gira sulla pompa molecolare, vacuumize a massima velocità, quindi gira sulla rivoluzione e sulla rotazione;

→ che riscalda la camera di vuoto finché la temperatura non raggiunga l'obiettivo;

Il → implementa il controllo della temperatura costante;

Il → pulisce gli elementi;

Il → gira e di nuovo all'origine;

Film ricoprente del → secondo i requisiti trattati;

Il → insufficiente la temperatura e ferma l'assemblea della pompa dopo avere ricoperto;

Il → smette di lavorare quando l'operazione automatica è finita.

 

I nostri vantaggi

Siamo produttore.

Processo maturo.

Risposta entro 24 ore lavorative.

 

La nostra certificazione di iso

Pellicole dielettriche Attrezzatura per rivestimento ottico Ar N2 O2 PVD Magnetron Sputtering Deposition 1

 

 

Parti dei nostri brevetti

Pellicole dielettriche Attrezzatura per rivestimento ottico Ar N2 O2 PVD Magnetron Sputtering Deposition 2Pellicole dielettriche Attrezzatura per rivestimento ottico Ar N2 O2 PVD Magnetron Sputtering Deposition 3

 

 

Parti dei nostri premi

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